Apparue dans les années 50, la projection plasma est maintenant utilisée dans la plupart des secteurs industriels pour réaliser des revêtements de matériaux réfractaires, de superalliages et plus généralement de matériaux à haute valeur ajoutée. Le procédé conventionnel qui utilise des poudres comme matériau d’apport est toujours le sujet de nombreux travaux de recherche pour élaborer de façon fiable et reproductible des couches permettant d’améliorer la performance des systèmes et de résister à des conditions plus agressives.

Cependant, l’avènement des nanomatériaux dans les années 90 a conduit à adapter le procédé pour réaliser des revêtements qui présentent une nanostructuration afin de tirer avantage des propriétés potentielles spécifiques de ce type de matériaux. Les modifications ont porté tant sur le matériau d’apport que sur le principe du procédé qui conventionnellement est basé sur la croissance d’un revêtement par l’accumulation de particules essentiellement en phase liquide.

Le concept de développement durable défini à la même époque offre maintenant un cadre de réflexion pour le développement de nouveaux procédés. Des outils comme l’analyse de cycle de vie du procédé et/ou du produit apparaissent comme un outil de réflexion, voire d’aide à la décision pour ces procédés.

Cette présentation (i) porte sur les récents développements du procédé de projection plasma et en particulier l’utilisation de poudres nanostructurées ou d’intrants liquides et l’élaboration de couches à partir de la phase vapeur et (ii) expose des exemples d’étude d’impacts environnementaux de ces procédés.

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