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Les Deuxièmes Journées d’Échanges

du 12 au 15 octobre 2003 à Bonascre

Les thèmes abordés pendant ces journées ont été les suivants :

- Technologie des réacteurs à plasmas
- Traitement de surface par plasmas
- Outils de diagnostics nouveaux ou récemment introduits dans la communauté plasmas



Technologie des réacteurs à plasmas

- Plasmas micro-ondes : Basses pressions (Yves Arnal).
- Plasmas micro-ondes : Hautes pression (François Sylva).
- Plasma inductifs et capacitifs basse pression (Philippe Lefaucheux).
- Plasmas thermiques (Christophe Verdy).

Traitement de surface par les plasmas

- Mécanismes élémentaires d’interaction particules-surfaces (Pascal Brault).
- Interaction plasma d’arc - surface pour l’obtention de dépôt : influence de la réactivité, des interfaces, de la micro et nano-structure sur les propriétés mécaniques (Alain Denoirjean).
- Interaction Laser-Silicium (Jacques Boulmer).
- Dépôts de films de Silicium par plasma (Pere Roca i Cabarrocas).

Caractérisation des surfaces

- Introduction aux techniques d’analyse de surfaces (Christophe Cardinaud).
- Ellipsométrie infrarouge (Enric Garcia-Caurel).
- Absorption large bande avec lasers femto-seconde (Nader Sadeghi)
- Utilisation des diodes lasers infrarouge dans les plasmas (Antoine Rousseau).
- Source d’ionisation par émission de champ par micro-pointe pour la spectroscopie de masse (Fabrice Cipriani).
- Réflectométrie de rayons X (Arie van der Lee).